在設(shè)計(jì)ELISA復(fù)孔檢查時(shí),提出問題:是對(duì)同一個(gè)樣品作兩次稀釋,再別離加到板上的兩個(gè)孔,仍是只稀釋一次,然后羅致兩次別離加到兩個(gè)孔?前者好像把稀釋時(shí)的過錯(cuò)也考慮到了,但做出來的成果兩個(gè)孔相差挺大的。
在ELISA實(shí)驗(yàn)中設(shè)復(fù)孔,意圖是為了削減本次實(shí)驗(yàn)的體系過錯(cuò)對(duì)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)帶來的影響,所以應(yīng)該用第二種,有條件的話復(fù)孔的數(shù)量能夠增加,體系過錯(cuò)更小。
我司技術(shù)答復(fù):
選用后者。假定在實(shí)驗(yàn)室階段,或許需求屢次稀釋,然后將不同稀釋次數(shù)的別離做復(fù)孔,以便檢查稀釋進(jìn)程中帶來的過錯(cuò);假定同一次稀釋的復(fù)孔一起的存在檢測(cè)差異大,或許ELISA板的均一性存在必定問題(打掃操作因素)。假定不同稀釋次數(shù)差異大,說明稀釋方法有問題。
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